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Novo
método permite fabricação de chips ainda menores
Do Nist
Graças em parte a medições altamente precisas feitas por
pesquisadores do Instituto Nacional de Padrões de Tecnologia (Nist),
os fabricantes de semicondutores poderão adotar um novo método que
lhes permitirá produzir novas gerações de chips de computador
usando os equipamentos existentes - e poupando à indústria
centenas de milhões de dólares.
Criar chips de computador cada vez mais poderosos depende da
capacidade de miniaturizar cada vez mais as características desses
chips. A indústria havia pensado estar perto do fim da vida útil
de equipamentos que criam características usando o comprimento de
onda de 193 nanômetros (nm).
No entanto, um novo método chamado litografia de imersão usa uma
fina camada de água como lente para encurtar os comprimentos de
onda efetivos da luz ultravioleta usada na padronagem de chips
semicondutores. O método conta com o fato de a luz se deslocar mais
lentamente através da água do que do ar. A freqüência da luz
permanece a mesma, por isso a distância entre os picos (o
comprimento de onda) deve ser encurtada para compensar.
O método deveria permitir que os fabricantes usem equipamento de
193 nm para criar linhas de circuito e outras características pelo
menos tão pequenas quanto 45 nm. Esse avanço permite que os
fabricantes criem chips muito mais poderosos enquanto obtêm mais
vida de seu atual equipamento de fabricação, que pode custar cerca
de US$ 20 milhões por ferramenta.
A indústria começou a levar a sério a litografia por imersão
cerca de um ano atrás. Com o apoio do International Sematech, o
consórcio de pesquisa e desenvolvimento da indústria de
semicondutores, cientistas do Nist fizeram medições altamente
precisas de uma propriedade chamada índice refrativo, uma medida de
quanta luz ultravioleta em um comprimento de onda de 193 nm se dobra
quando passa do ar para a água. Esse novo dado ajudou a indústria
de semicondutores a criar sistemas de litografia por imersão.
Pesquisadores do Nist descreveram os principais resultados de seu
trabalho na conferência Microlitografias 2004 da Sociedade
Internacional de Engenharia Óptica. Os pesquisadores também estão
trabalhando com a indústria em novos fluidos de imersão para
ferramentas de fabricação de chips com comprimento de onda de 157
nm, para que esse equipamento possa produzir características de 32
nm ou menos.
Tradução: Luiz
Roberto Mendes Gonçalves
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